场发射扫描电子显微镜产品介绍
场发射扫描电子显微镜产品Sigma系列介绍：
Sigma 系列产品用于高品质成像与高级分析的场发射扫描电子显微镜。
灵活的探测，4步工作流程，高级的分析性能
将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，利用成熟的 Gemini 电子光学元件。多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。
Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间：设置成像与分析步骤，提高效率。
Sigma 300 性价比高。Sigma 500 装配有一流的背散射几何探测器，可快速方便地实现基础分析。任何时间，任何样品均可获得精准可重复的分析结果。
场发射扫描电子显微镜产品应用：
用于清晰成像的灵活探测
利用先进探测术为您的需求定制 Sigma，表征所有样品。
利用 in-lens 双探测器获取形貌和成份信息。
利用新一代的二次探测器，获取高达50%的信号图像。在可变压力模式下利用 Sigma 创新的 C2D 和 可变压力探测器，在低真空环境下获取高达85%对比度的锐利的图像。
自动化加速工作流程
4步工作流程让您控制 Sigma 的所有功能。在多用户环境中，从快速成像和节省培训首先，先对样品进行导航，然后设置成像条件。
首先，先对样品进行导航，然后设置成像条件。
接下来对样品感兴趣的区域进行优化并自动采集图像。最后使用工作流程的最后一步，将结果可视化。
高级分析型显微镜
将扫描电子显微镜与基本分析相结合：Sigma 一流的背散射几何探测器大大提升了分析性能，特别是对电子束敏感的样品。
在一半的检测束流和两倍的速度条件下获取分析数据。
获益于8.5 mm 短的分析工作距离和35°夹角，获取完整且无阴影的分析结果。
基于成熟的 Gemini 技术
Gemini 镜头的设计结合考虑了电场与磁场对光学性能的影响，并将场对样品的影响降至更低。这使得即使对磁性样品成像也能获得出色的效果。
Gemini in-lens 的探测确保了信号探测的效率，通过二次检测(SE)和背散射(BSE)元件同时减少成像时间。
Gemini 电子束加速器技术确保了小的探测器尺寸和高的信噪比。
用于清晰成像的灵活探测
利用新的探测技术表征所有的样品。
在高真空模式下利用创新的 ETSE 和 in-lens 探测器获取形貌和高分辨率的信息。
在可变压力模式下利用可变压力二次电子和 C2D 探测器获取锐利的图像。
利用 aSTEM 探测器生成高分率透射图像。
利用 BSD4 或者 YAG 探测器进行成份分析。
Sigma 300 可提供
集成式 EDS 解决方案:在低能量分析应用中同时实现高清晰度成像
Sigma Element 是一种集成式 EDS 解决方案，拥有高可用性和低电压灵敏度。仅需使用一台计算机来控制 EDS 和 SEM，进而大大提升了该集成化解决方案的易用性。
同时，借助专门为显微镜和 EDS 操作设计的用户界面可实现并行控制。
• 集成化：通过集成化，结合高清晰成像与快速分析，从而获得不错结果
• 定制化：根据不同的用户需求定制软件
• 灵敏度：独特的氮化硅窗口增强低能X射线的探测灵敏度
拉曼成像与扫描电镜联用系统:完全集成化的拉曼成像
获取样品中化学结构的指纹信息：聚焦拉曼光谱成像可扩展您的蔡司Sigma 300 扫描电镜性能。 分析获得样品分子结构和结晶信息。
通过拉曼成像与EDS数据可进行3D 分析并与SEM图像关联。完全集成化的拉曼成像扫描电镜联用系统使你充分发挥SEM和拉曼系统的功能。
场发射扫描电子显微镜技术参数
场发射扫描电子显微镜参数：
