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检查显微镜
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检查显微镜

反射照明专用显微镜,日本Nikon显微镜

  • 型号:ECLIPSE L200N
  • 品牌:Nikon
  • 产地:日本
遵循标准:
简介:
日本Nikon ECLIPSE L200N/ L200ND 显微镜用于反射照明观察,除可进行明场、暗场、微分干涉观察之外,更可进行UV(365nm)激发的反射荧光观察。

检查显微镜产品介绍

超高的基本性能之外,更大大提升了观察性、操作性、耐久性

可以观察的最大硅片直径为200mm

观察倍率15X~3000X(视目镜和物镜的组合而定)

  

ECLIPSE L200N 反射照明专用    ECLIPSE L200ND 反射.透射照明专用


观察性能提升

扩大检查范围的反射荧光观察(L200ND)

反射照明观察,除可进行明场、暗场、微分干涉观察之外,更可进行UV(365nm)激发的反射荧光观察。

对于半导体感光薄膜的残渣、有机EL显示面板的观察发挥了很大的威力。

使用物镜:CFI LU PLAN FLUOR 10X

      

 硅片的明场观察     暗场观察     微分干涉观察    反射荧光观察

反射荧光观察用的电动水银光纤光源[强光](L200ND)

光源采用了预定心电动水银光纤光源[INTENSILIGHT]。更换灯泡时不用进行灯丝调心和对焦。

灯箱可与主机分离设置,以降低光源发热对显微镜的影响。6段式的调光机能和快门机能,实现了良好的操作性。

约2000小时超长使用寿命的灯泡大幅降低了使用成本。

  

 操作性能提升、理环保

比12V100W更亮的高亮度12V50W卤素灯采用了12V50W的[LV-LH50PC预定心灯箱],与12V100W相比,耗电量削减了约一半,又可达到与其同等甚至更亮的亮度。

灯丝位置经过优化设计,且灯箱里有反光镜,使照明视场均匀,并提高照明效率。特别是用到50倍以的高倍物镜时,能得到比12V100W亮约20%的观察图象。

更环保,也能防止因热量而造成的焦面偏移的干扰。 

抗污染的防静电涂层

主机、载物台、镜筒均涂有消静电涂层。为了提高抗污染能力,防止工件因静电感应而受损,从而提高成品率。

可调节到最佳位置进行观察的正立调倾式三目镜筒

视场数25的超大视场,可任意设定0~30°的观察角度。根据使用者体型和观察姿势的不同,可将三目镜筒调节到最佳位置松随意的进行观察。

 载物台微调手轮无需移动工件

不用移动工件,载物台微调手柄位置固定于显微镜主机操作部旁。

所有的操作部都尽在手边,移动载物台、对焦等显微操作,不用抬手,只需动动手腕就可轻松执行。

耐久性比以前高3倍的电动通用物镜转换器

最多可以安装到6个物镜。和偏心较小的物镜结合使用,用高倍物镜观察时切换倍率也很少会出现图象闪动现象。

从低倍到高倍的自由切换更稳定。考虑到使用者,在旋转物镜转换器时会自动切断照明光路,避免光直接照射使用者眼晴。

对焦目标

对焦目标可移入光路,这一特性对于裸硅片之类的低对比度工件的正确对焦成为方便。

显微镜操作部位集中于底座前部

操作手轮、按键等,都集中于底座前部,更便于使用。一看就能快捷高效的进行显微操作。大大减轻了长时间观察的疲劳感。

获取最佳图象,提升与显微镜用数码相机的联动力

实现了从观察到图象拍摄、分析的最佳整体化


·尼康开发提供了便于使用的显微镜、数码相机和软件一体化的高机能设备系统。

·支持从设定最佳观察条件,到数码拍摄→处理→分析的整个流程

用于LSI检查显微镜 ECLIPSE L200N

Wafer Loader NWL200系列    

 与ECLIPSE L200N相结合,对应最新的硅片检查需要。

 运用独立的尼康高端技术,稳定传输超薄型100um硅片。 

              

 


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